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在半导体、集成电路、显示面板等精密电子制造中，超纯水的水质直接关系到产品的良率与性能。要达到近乎理论纯度的“电子级”水质，单一技术难以实现。现代超纯水系统普遍采用“双级RO + EDI”的核心组合工艺，它们如同精密协作的“净化伙伴”，分阶段、深度地去除水中各类杂质。

一、 角色定位：互补的净化核心

双级RO（两级反渗透）：承担“主力预脱盐”与“负荷减轻者”角色。它主要利用物理压差驱动，通过半透膜去除进水中约99%以上的溶解盐分、离子、有机物、胶体及微生物。第1级RO进行初步浓缩脱盐，第二级RO则对一级产水进行深度精炼，进一步降低含盐量，为后续工艺提供优质、稳定的进水条件。

EDI（电去离子）：承担“深度精处理”与“抛光”角色。它巧妙地将离子交换树脂与选择性离子膜、直流电场结合。在电场作用下，水中残余的微量离子被持续迁移去除，同时水电离产生的H⁺和OH⁻离子能实时再生树脂，从而实现无需化学再生的连续深度脱盐与抛光。

二、 协同工作流程：环环相扣的净化链条

1. 预处理与初步脱盐：原水首先经过精密过滤、软化等预处理，去除悬浮物、硬度等，以保护后续核心设备。随后进入第1级RO单元，完成大部分溶解性固体（TDS）的脱除。

2. 水质提升与缓冲：一级RO产水进入第二级RO单元。此阶段进水水质已大幅改善，因此二级RO可在更高回收率、更低运行压力下工作，产水水质（特别是电导率）得到显著提升，通常可达1-10 µS/cm级别，大幅减轻了后续EDI单元的离子负荷。

3. 深度抛光与连续运行：二级RO产水（已为初级纯水）进入EDI模块。在这里，残余的微量离子（如Na⁺、Cl⁻）和弱电解质（如CO₂、SiO₂）被深度去除。在直流电场驱动下，这一过程连续、稳定进行，无需停机化学再生，产水电阻率可稳定达到15 MΩ·cm以上，满足电子级超纯水的初级指标。

4. 终端精制：EDI产水通常还需经过紫外线杀菌（UV）、抛光混床（POU MB）及超滤（UF）等最终处理，以去除TOC、微生物、颗粒物及痕量离子，最终达到18.2 MΩ·cm（25°C）的电子级超纯水标准。

三、 协同优势：1+1>2的系统效益

稳定性增强：双级RO作为可靠的前置屏障，能有效缓冲原水水质波动对EDI的冲击，为EDI提供极其稳定、优质的进水，保障其长期、稳定运行。

运行经济性：EDI无需使用酸碱进行化学再生，降低了运行成本、安全风险和废水排放。而双级RO的预处理作用，则显著延长了EDI模块的使用寿命，降低了综合维护成本。

水质保障性：两者结合实现了从“毫克/升级”到“微克/升级”乃至“纳克/升级”的逐级净化，确保了出水电阻率、TOC、颗粒物及微生物等关键指标、持续地满足严苛的电子行业标准。