单晶硅清洗应用工业超纯水设备的优势

超纯水设备是一种出水电阻率很高、无杂质、无导电的设备，而单晶硅是指具有基本完整点阵结构的硅单晶体。不同的方向有不同的性质，是一种很好的半导体材料。用于制造半导体设备、太阳能电池等。无论应用哪些行业，都需要进行加工清洗。因此，康诺水处理公司发现，把单晶硅用于工业超纯水设备清洗工艺，是一种较好的选择。

康诺单晶硅清洗超纯水设备采用双反渗透、EDI、抛光混合床相结合的制水工艺，具有水利用率高、运行可靠、经济合理等特点。但单晶硅清洗超纯水设备长期工作后，如果不定期维护，容易污染，因此单晶硅清洗超纯水设备应保养，确保设备出水水质符合要求。

　　该设备通常由预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成整体设备，那么设备都具有哪些性能优势值得被选择呢？

　1、模块化设计

　　超纯水处理设备采用积木式结构，可依据场地的高度和灵活地构造，模块化设计，使EDI在生产工作时能方便维护。

　2、无需药剂和任何再生化学品

　　不需中和药剂，因为EDI膜块不会有酸碱废液产生。也无需使用任何再生化学品进行再生，这样也就减少了化学品运输问题，同时降低了系统运行费用。

　3、出水连续稳定、简单操作

在混床中由于每次再生和水质量的变化，操作过程变得极其复杂，而EDI模块的产水过程是稳定连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，简化了操作流程。

4、无需酸碱再生

　　在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生，而EDI则消除了床酸碱再生时产生的废酸废碱的处理和繁重的工作，同时还保护了环境。　

　　康诺超纯水设备可连续稳定地制备超纯水，硼离子可≤5ppt，水质稳定在ppt水平，可更好地帮助集成电路企业的发展，形成更强的企业竞争力。